APCVD

根据与 SPP Technologies, Ltd. 签订的协议,SPTS 为基于 SiH4 或 TEOS 的电介质的常压 CVD 提供解决方案。这些 APCVD 产品系列基于荣获专利的 Watkins Johnson (WJ) 线性喷射器技术,能够准确、可重复地沉积有掺杂或无掺杂薄膜,整片晶圆没有瞬态薄膜特性,且整片晶圆填孔均匀。
晶圆传送通过自清洁式皮带输送机完成,对于电介质间隙填孔,可实现卓越的系统可靠性和最低的 CoO。
 

多种平台可供选择

  • WJ-999 - 3 个工艺腔,适合 TEOS 与(hydride)氢化物工艺
  • WJ-1000 - 4 个工艺腔,适合 TEOS 与(hydride)氢化物工艺
  • WJ-1500 - 4 个腔,仅适合 TEOS 工艺
经工厂认证的翻新改造服务适用于所有设备,多种升级改造选项确保设备寿命与可扩展性。
设备外观:
APCVD

APCVD

Under agreement with SPP Technologies, SPTS offers solutions for Atmospheric Pressure CVD of SiH4 or TEOS based dielectrics. These APCVD product...

閱讀更多內容

Inquiry about: APCVD

Please provide your name
Please provide your name
Please provide your email address
Please provide your telephone number
Please provide your job title
Please provide your company name
Please enter your message
Please confirm that you have read and agree to the privacy policy

Privacy Policy

×