APCVD

根据与 SPP Technologies, Ltd. 签订的协议,SPTS 为基于 SiH4 或 TEOS 的电介质的常压 CVD 提供解决方案。这些 APCVD 产品系列基于荣获专利的 Watkins Johnson (WJ) 线性喷射器技术,能够准确、可重复地沉积有掺杂或无掺杂薄膜,整片晶圆没有瞬态薄膜特性,且整片晶圆填孔均匀。
晶圆传送通过自清洁式皮带输送机完成,对于电介质间隙填孔,可实现卓越的系统可靠性和最低的 CoO。
 

多种平台可供选择

  • WJ-999 - 3 个工艺腔,适合 TEOS 与(hydride)氢化物工艺
  • WJ-1000 - 4 个工艺腔,适合 TEOS 与(hydride)氢化物工艺
  • WJ-1500 - 4 个腔,仅适合 TEOS 工艺
经工厂认证的翻新改造服务适用于所有设备,多种升级改造选项确保设备寿命与可扩展性。
设备外观:
APCVD

APCVD

Under agreement with SPP...

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