MVD®

分子气相沉积 (MVD®) 旨在帮助半导体制造商生产超薄的功能化有机和无机膜,与传统液相沉积技术相比,其良率更高且成本效率更优。此类薄膜可作为润滑性、防护性、疏水性、亲水性、生物相容性或反应性涂层。例如,在 MEMS 应用中,MVD 薄膜通常用作防粘连涂层,以改善设备性能,并提高整体设备寿命。

低温条件下,在广泛的基板上,MVS 工艺技术可通过气相沉积产生超薄膜。这是同类中唯一的沉积技术。该平台是高度灵活的系统,可运行 ALD 和 CVD 等工艺,针对基板调节提供可选的集成等离子生成。在 MVD 平台,可以使用最多四个前驱物,并且可在一个批次中处理多个晶圆或其他三维对象。在高达 2000:1 的积极纵横比中,可提供极高的保形性。

MVD® 对 MEMS 生产的好处

通过 MVD,制造商能够以行业领先的可靠性实现出色的薄膜均匀性 — 这些优势可最大限度提高制造良率,降低总体成本。同时,设备性能也得到极大改进,尤其是在许多 MEMS 应用中。例如,借助 MVD 沉积防粘连薄膜,麦克风的失败率从 14% 缩减到 0.4%,而加速计的失败率则从 40% 降到 5% 以下。

MVD 平台功能齐全、简单易用且高度可扩展。此外,其学习曲线平稳,对于为许多应用部署该系统的客户而言,这是他们十分看重的一项优点。得益于工具的固有效率,拥有成本超低,而非常低的前驱物消耗也进一步推动了成本降低。此外,每次运行仅消耗数毫克的前驱物,并且所需的使用点废气处理接近于零,因此该工艺比大部分其他 CVD 沉积技术更环保。

对于超薄保护膜的生产,MVD 是传统方法的出色替代方案。由于特征尺寸的缩小速度比传统沉积工具的速度更快,因此 MVD 代表一种全新的方法。该平台摆脱了原有技术,由我们的薄膜沉积专家团队精心设计,旨在满足当今先进设备的高性能规格。

除了 MEMS,其他重要应用也可从 MVD 中获益匪浅。例如,在先进封装应用领域,MVD 薄膜可用作聚合物的防潮层,也可用作金属的抗氧化和防腐蚀层。在喷墨打印应用领域,MVD 薄膜可防止油墨在喷嘴面板上积聚,从而优化油墨流量。在生物 MEMS 应用领域,MVD 薄膜可改善润湿,和/或防止蛋白质吸附。在生物技术应用领域,MVD 薄膜可用于创建生物分子反应的表面锚。在纳米压印平板印刷技术中,MVD 薄膜可用作印记和聚合物材料之间的非常薄的保形释放层。